国产芯片再传好消息是真的吗，国产芯片事件最新消息

自打处理芯片标准被重新编辑，在我国半导体产业“缺芯少魂”的薄弱点便被放大化，特别是晶圆制造此项轻资产行业，与国外顶级水平拥有很大的差别。哪怕是tsmc张忠谋都公布发音，称内地晶圆代工产业链，最少落伍tsmc五个隔辈之上。

往往出现这样的情况，一方面主要是因为中国芯片发展比较晚，另一方面，乃是初期“买办阶级”意识风靡，许多中国高科技企业宁愿挑选高价位进口的，也不愿去自主开发。这形成了一种“恶循环”，导致很多人在关键设备材料层面不断落伍，有的甚至处于空缺局势。

比如光刻胶原材料，被称作芯片制造的“然料”，其核心的作用是涂在单晶硅片上，维护基板底座，进而提升光刻机曝出成像效果。光刻胶与处理芯片特性、合格率都是有着密切的关系，其作用显而易见。

在全球范围内中高档光刻胶销售市场，可以做到自力更生的区域仅有美国和日本，特别是信越化学、日本东京应化、丁苯橡胶等日本公司，基本上处在垄断行业影响力，市场份额超过90%。而我国光刻胶的自有率却不够5%。

中芯、华虹半导体等国内晶圆代工厂商，以往常用过的光刻胶原材料基本上都来自于这种日企。更令人气愤的是，在老美打压华为等华企之时，日本公司也“过河拆桥”，信越化学去年中期就向外公布，不会再向一部分指定华企出口光刻胶商品。

遇到这样的情况，产品研发归属于我们自己光刻胶商品也就成了国产半导体的重中之重，我国更是将光刻胶原材料纳入了关键科研课题。

有志者事竟成，就在那最近，国内光刻胶传来喜讯。据报道，承揽光刻胶产品研发二期项目工程项目的南大光电对外开放公布，企业研制的Arf光刻胶商品早已已通过技术认证，适用7nm工艺，可用于储处理芯片和逻辑芯片生产制造等众多重要行业，且交由了下游客户。

针对上坡时期的中国芯片来讲，南大光电的本次提升极其重要。要记住，7nm芯片制造是DUV光刻机的极限值加工工艺，tsmc初期就是利用双重曝光技术进行了批量生产，在其中Arf光刻胶所提供的技术性意见反馈，也起到了至关重要功效。

这就意味着，在补好Arf光刻胶原材料此项薄弱点后，DUV光刻机的落实过程将会加速，国内芯片销售市场下面彻底还有机会在14nm制造的前提下更进一步。

对于此事，有国外媒体表明，怪不得ASML不淡定了，不管不顾老美限令，也必须向内地销售市场出口DUV光刻机。

在我国不仅有着全球最大半导体材料市场的需求，在独立造芯潮流驱动下，对光刻机的需要经营规模十分巨大。但是，老美却将ASML作为变成打击华企的“专用工具”，不但限定它对于华企出口EUV光刻机，并且最近一段时间还再度向西班牙施加压力，规定ASML连DUV等流行光刻机便不再出售给我国。

而让老美没想到是指，ASML本次心态剧变，在回绝老美的前提下，还强势表态发言自身是一家欧洲地区企业，还会继续增加在中国市场合理布局。

据资料显示，自去年迄今，ASML已经向内地销售市场出口了78台光刻机，甚至把在我国设立服务处也扩展到了15个，其职工经营规模也是达到了1500人。

此外，ASML还公布了一项重磅消息确定，在2026年以前，把DUV光刻机的本年度销售量提升到600台！在半导体材料遭受“寒冬”之时，ASML扩大产能将卖给谁？它业务流程重心点可谓是国内市场。

在经历美芯“卡脖”以后，中国就推动了对光刻机的开发，哪怕是ASML都承认，物理学标准在我国一样合理。弦外之音就是中国有着创造出中高档光刻机实力。到目前为止，中国已达到了90nm光刻机，28nm也正处于产品测试。

正是因而，外国媒体才能说ASML不淡定了。它可能依照老美的需求回绝对华企出口光刻机，结论只能促进我国光刻机加速落地式节奏感。到时候，ASML面对的不仅仅是非常大的营业收入损害，对比高性价比的“中国制造业”，ASML也将在国际范围内遭受很大的生存压力。

相反，ASML这时扩张交货经营规模，既能确保营业收入，又可在一定程度上挤压成型国内光刻机的发展前景，进而夯实其本身的市场地位。

因而，不管ASML能不能随意交货，中国高科技企业都不该掉以轻心，应该始终坚持实用化路面，由于关键技术是选不来的，如同南大光电跨越的7nm光刻胶一样，你只有做到了极致“手里有粮”，才能够把握主导权，从源头上防止被再度“卡脖”